研究背景
柔性光电探测器作为传感器网络的重要组成部分,广泛应用于健康监测、运动检测、生物医学成像和可折叠显示等领域。由低维材料(2D、1D)构建的范德华异质结具有优异的机械性能、迷人的物理性能和高透明度,在柔性电子/光电器件领域具有良好发展前景。然而,该异质结构的弱光吸收导致了较差的光响应性能,且难以规模化制备限制了其量产和实际应用。得益于纳米阵列结构的强光吸收,在二硫化钼(MoS₂)上自组装的一维氮化镓(GaN)纳米棒阵列为开发具有优异光响应能力的自供电光电探测器阵列提供了发展策略。聚(3,4-乙烯二氧噻吩):聚苯乙烯磺酸盐(PEDOT:PSS)作为一种高效的空穴传输(HTL)材料在柔性光伏器件中得到了广泛的研究,其与GaN的结合可以提高自供电光探测性能。然而,热稳定性差的传统柔性材料难以承受GaN和MoS₂的高生长温度,因此其与PEDOT:PSS集成的一维/二维异质结用于柔性光电子尚未见报道。

Wafer-scale Vertical 1D GaN Nanorods/2D MoS₂/PEDOT:PSS for Piezophototronic Effect Enhanced Self-powered Flexible Photodetectors
Xin Tang, Hongsheng Jiang, Zhengliang Lin, Xuan Wang, Wenliang Wang* and Guoqiang Li*
Nano-Micro Letters (2025)17: 56
https://doi.org/10.1007/s40820-024-01553-8
本文亮点
1. 首次实现了晶圆级垂直一维GaN纳米棒阵列/二维MoS₂/PEDOT:PSS异质结构用于柔性光电探测。
2. 在压应变下,自供电柔性光电探测器的光响应性能显著增强,响应度高达2.47 A/W,响应时间低至40/45μs,优于目前最先进的柔性器件。
3. 这项工作不仅为可调制的范德华异质结构的设计和构建提供了有价值的策略,而且为柔性传感器的发展提供了新的机遇。
内容简介
华南理工李国强、王文樑等首次实现了晶圆级垂直一维GaN纳米棒阵列/二维MoS₂/PEDOT:PSS异质结构用于自供电柔性光电探测器阵列。原子薄的MoS₂具有优异的机械强度和物理化学稳定性,不仅可以作为GaN纳米柱阵列范德华外延的模板,而且可以将阵列结构无损地转移到柔性PEDOT:PSS/衬底上,这为柔性电子/光电子的功能集成和大面积制造提供了一条有前途的途径。集成器件在弱紫外光照射和无外部偏置下,响应度高达1.47 A/W,响应时间低至54/71μs,这归因于II型异质结中有效的载流子分离。此外,还证明了器件的应变可调的光探测性能。由应变诱导的压电极化电荷引起的GaN/MoS₂界面的能带倾斜促进了光生载流子的分离和输运。令人印象深刻的是,该器件在-0.78%应变下显示出显着增强的光响应,响应度提高至2.47 a /W,响应时间降低至40/45μs,优于最先进的自供电柔性光电探测器。此外,所制备的光电探测器具有良好的实时紫外监测和成像性能。
图文导读
I GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结构表征
如图1a所示,晶圆级垂直一维GaN纳米棒阵列/二维MoS₂/PEDOT:PSS异质结构通过范德华外延与湿转移相结合的方法制备。图1b显示了器件具有高透明度和灵活性。图1c、d显示长度为~500 nm、直径为~50 nm的GaN纳米柱阵列几乎垂直排列在柔性衬底上。通过HRTEM图像及其相应的SAED模式进一步研究了GaN纳米柱的单晶结构,如图1e, f所示。在轴向上导出的面间距为~ 0.521 nm,确定为纤锌矿GaN结构。如图1g的XRD图所示,六方GaN结构的(0002)平面在34.4°处有一个强衍射峰,证实了垂直排列的c轴取向GaN纳米柱阵列已经转移到柔性衬底上。如图1h所示,MoS₂的面内振动模态(E1g)与面外振动模态(A1g)的峰值差为23 cm⁻1,表明MoS₂是三层的连续薄膜。值得注意的是,与MoS₂相比,异质结的A1g声子模式表现出明显的蓝移,表明存在很强的界面相互作用。对于自组装异质结,569 cm⁻1处的拉曼峰可归因于GaN E2声子模式,并且还观察到MoS₂的峰,表明在GaN生长后MoS₂没有相变。

图1. GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结光电探测器制备工艺及表征:(a)晶圆级异质结制备流程;(b)光学图像;(c)斜视和(d)俯视异质结的SEM图像;(e)GaN纳米柱TEM图像和相应的SAED图;(g)XRD图谱和(h)拉曼光谱。
II GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质界面的电荷传输性能
如图2a所示,通过计算电荷密度差(CDD)分布,研究了GaN/MoS₂/PEDOT:PSS的异质界面电荷转移。如等值面图所示,绿色区域为电荷积累区,蓝色区域为电荷耗尽区,分别对应平面平均CDD沿Z方向的正值和负值。基于上述结果,我们构建了GaN/MoS₂/PEDOT:PSS的能带图如图2b所示,显示了异质界面处的II型能带排列,有利于自供电模式下光生载流子分离。如图c所示,利用飞秒瞬态吸收光谱(FS-TA)研究了GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质界面的光激发载流子动力学。在泵浦密度(50 μJ/cm2)下,图2d中异质结中基态漂白(GSB)信号的强度在500 fs延迟时比MoS₂显著降低,这可能是由于电子从MoS₂转移到GaN。从TA光谱中提取的A激子归一化动力学如图2e所示,快速衰减分量₁可以分配给光激发载流子的快速捕获过程,第二组分₂可能与激子-声子散射有关,较慢的分量₃可能归因于辐射电荷重组或弛豫。可以观察到,GaN/MoS₂/PEDOT:PSS的复合寿命(6.79 ns)比GaN/MoS₂ (1.84 ns)和MoS₂ (0.71 ns)要长得多,这可归因于三元异质结中增强的光生载流子分离。

图2. GaN/MoS₂/PEDOT:PSS光生电荷输运研究:(a)GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结的II型带对准图;(b)电荷密度差(CDD)等值面分布和沿垂直异质结Z位置的平面平均CDD;(c)GaN/MoS₂/PEDOT:PSS在不同延迟下的瞬态吸收(TA)图;(d)500 fs时MoS₂、GaN/MoS₂和GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结的毫光密度(mOD)和(e)提取的A激子的归一化动力学图。
III GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结的光探测性能
如图3a所示,在不同强度的紫外光下,测试了光电探测器典型的电流-电压(I−V)特性,偏置范围为-2至2 V。在光照射下的光电探测器电流从<5×10⁻1⁰A显著增加到的>6.3×10⁻⁵ A;如图3b所示,短路电流和开路电压分别达到63.2μA和0.36 V;在图3c中,响应度和探测率均随着光功率密度的增加而单调减小,在低功率密度下,分别达到1.47 A/W和1.2×1011 Jones;光电探测器的光谱响应曲线如图3d所示,可以观察到光谱响应曲线的峰值波长位于~365 nm;此外,该器件还具有可见光探测能力,在多波段光探测中具有广阔的应用前景;图3e研究了不同光功率密度下的光伏响应,光电流随光源开关周期性变化,重现性好;在5kHz和3kHz脉冲光照下的光响应也通过数字示波器进行了评估。通过计算图3f中放大脉冲的上升时间(τr)和下降时间(τf)来确定响应速度。在5khz和3kHz脉冲光下,光电探测器由于其独特的垂直结构优势,对紫外光的响应速度非常快,分别为τr/τd=54/71μs和τr/τd=72/98μs。

图3. 器件光伏响应特性:(a)在不同照明功率密度的365nm紫外光下和黑暗环境下光电探测器的I-V特性;(b,c)不同光功率密度下器件的短路电流、开路电压、响应度和探测率;(d)器件在365 nm紫外光照射下的光谱响应曲线和(e)I-T曲线; (f)器件在3kHz和5khz脉冲紫外光下的时间分辨光响应曲线。
图4a为压缩应变和拉伸应变作用下器件的原理图和实际照片;如图4b所示,在-0.78%至0.45%的不同应变范围内,研究了光电探测器在黑暗中的I-V特性,在+2V时,电流与压缩应变成正比,随着拉伸应变的增大而减小,在−0.78%应变下,输出电流可以提高到0.88×10⁻⁴ A,计算得到的异质结整流比从105.4增加到120.5,这与压电调制的结势垒有关;如图4c所示,在1.12 mW/cm2的功率密度下,柔性器件显示了压电-光电子效应,在+2V偏置下,−0.78%应变下获得的最高光电流(2.81×10⁻⁴ A)比无应变时增加了58.6%;如图4d所示,表明光伏性能与外部应变密切相关;研究了柔性光探测器的光响应随时间的变化,响应时间的变化如图4e所示,随着压应变的增大,响应时间呈下降趋势,随着拉应变的增大,响应时间呈减缓趋势,在-0.78%应变下,光电探测器的响应时间τr为40μs,τd为45μs;图4f中光响应曲线表明,即使在弯曲状态下,1D/2D器件也具有优越的重现性和可靠性;图4g对器件在不同功率密度和应变下的零偏置光电流进行了分析和总结,可以发现,在更高的功率密度下,光电流的增长速率更大,这证实了压电-光电子效应对性能的显著改善;图4h进一步计算了光电探测器的响应度,最高可达2.47 A/W;相对响应度变化率如图4i所示,在应变为-0.78%时,响应度提高了68.2%。随着光功率密度的增加,相对响应度变化率逐渐降低,这可能是由于光生载流子的饱和和捕获。

图4. 器件柔性弯曲的光探测性能:(a)拉伸和压缩应变光电探测器图;器件(b)在黑暗和(c)在紫外光照射下与应变相关的I-V特性;(d,e,f)器件在不同应力状态下的短路电流、开路电压、响应时间和光响应曲线; (g,h,i)器件在不同应力和光功率密度下的光电流、响应度和相对响应度变化率。
IV 应变调制光响应工作机制
在532 nm激光激发下,利用PL谱深入研究了应变对GaN/MoS₂异质结界面载流子行为的影响。图5a显示,在无应变状态下,GaN/MoS₂的PL强度相对于MoS₂被抑制,表明异质结的II型能带对准有利于有效的电荷转移;不同应变下GaN/MoS₂异质结的PL谱如图5b所示,从压缩应变到拉伸应变的峰值强度显著增强;图5c中提取的A⁰、A⁻和B三个激发峰在拉伸应变作用下出现了明显的蓝移。仅考虑应变诱导晶格变形对电子结构的影响,MoS₂ PL峰在拉伸应变下出现红移,这与我们的实验结果相反。这意味着MoS₂的变化可以归因于压势,这与静电门控的变化相似。因此,压缩应变下的压电极化电荷促进了MoS₂中光生电荷的分离,从而显著抑制了PL强度。相比之下,拉伸样品的PL强度由于光激子复合增强而显著增加。为了进一步探索自集成器件的应变门控机制,我们绘制了GaN/MoS₂/PEDOT:PSS异质结在压缩应变和拉伸应变下的能带结构图,如图5d,e所示。考虑到原子厚度为三层的MoS₂薄膜,MoS₂与GaN接触后会被完全耗尽。具有非中心对称纤锌矿结构的GaN NRAs在应变刺激下表现出压电效应。GaN在压缩应变状态下产生的正压极化电荷吸引了MoS₂侧负电荷的积累,这进一步增加了MoS₂的能带斜率。因此,在额外的正压势驱动下,光生载流子的分离和输运效率更高,从而提高了GaN/MoS₂/PEDOT:PSS光电探测器在自供电模式下的光响应。另一方面,当异质结受到拉伸应变时,GaN中产生负极化电荷,MoS₂的能带斜率减小,抑制了光生载流子输运,使整体的光响应下降。

图5. 压电光电子效应调控光响应的详细工作机理:(a)MoS₂和 GaN/MoS₂在532 nm激发下的PL光谱;(b)不同应变下GaN/MoS₂的PL光谱;(c)应变相关的A⁻ ,A⁰和B光子能量;紫外照射下异质结(d)压缩应变和(e)拉伸应变能带图。
如图6a-c所示,在晴天、阴天和阴天环境下的辐射功率密度分别为4.2、1.3和0.35 mW/cm2,检测到的光电流分别为28.4、12.5和5.9 μA。图6d中对应的光暗电流比(PDCR)分别为4.6×103、2.1×103和0.96×103,证实了所制备的光电探测器可以灵敏地分辨不同程度的紫外光。在图6e中,记录了探测器全天的实时光电流。集成装置能够对过度紫外线照射发出警报,这对预防皮肤癌具有重要意义。此外,基于GaN/MoS₂/PEDOT:PSS的器件阵列已在成像传感器中得到验证。图像传感分析系统的原理图如图6f所示,所有成像测试均在0V偏压下进行。当入射光穿过金属掩模上的字母时,由探测器阵列(10×10)中相应像素产生的光电流被SMU接收。计算机记录来自SMU的当前值的大小并依次绘制图像。得益于良好的光电流均匀性,传感器阵列在平面和弯曲状态下都显示出清晰的成像输出“H”,如图6g所示,证明了其在柔性高分辨率成像中的应用。

图6. 器件用于实时紫外监测和成像输出:(a,b,c)测量广州塔(晴天)、树荫(晴天)和广场(阴天)的紫外线辐照度;(d)对应的光暗电流比;(e)光电探测器全天记录的随紫外线强度变化的实时光电流;(f)图像传感分析系统原理图;(g)紫外光照下,传感器阵列在平面和-0.51%应变状态下的清晰成像输出“H”。
IV 总结
通过范德华外延和辅助湿转移制备了晶圆级GaN 纳米柱/MoS₂/PEDOT:PSS异质结用于自供电柔性光电探测器。该器件在365nm紫外光照射下表现出色的自供电光探测能力,响应度为1.47 A /W,上升/下降时间为54/71μs。显著的光伏响应效应可以归因为两个方面。一方面,集成在光电探测器中的垂直1D/2D异质结构具有以下优势:(i)具有巨大比表面积的GaN 纳米柱阵列的强光吸收可以增强光生电流密度。(ii)量子约束减少了光生载流子的传递时间。另一方面,GaN/MoS₂/PEDOT:PSS的II型带对准有利于光生载流子的分离。此外,利用压电光电子效应证明了光电探测器的应变可调性能。值得注意的是,压缩应变为-0.78%时的响应度高达2.47 A/W,比未应变状态提高了68.2%。从实验和理论分析来看,增强的光响应可归因于压缩应变诱导的压电极化电荷在GaN/MoS₂界面处引起的能带倾斜,促进了光生载流子的分离和输运。此外,光电探测器可以集成到柔性可穿戴组件中,用于紫外传感和高分辨率成像,为自供电、柔性光电子学的发展提供了发展策略。
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本文通讯作者
致力于发展高性能III-V族化合物半导体材料与芯片。

本文通讯作者
宽禁带半导体GaN材料与芯片研究。
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Nano-Micro Letters《纳微快报(英文)》是上海交通大学主办、在Springer Nature开放获取(open-access)出版的学术期刊,主要报道纳米/微米尺度相关的高水平文章(research article, review, communication, perspective, highlight, etc),包括微纳米材料与结构的合成表征与性能及其在能源、催化、环境、传感、电磁波吸收与屏蔽、生物医学等领域的应用研究。已被SCI、EI、PubMed、SCOPUS等数据库收录,2023 JCR IF=31.6,学科排名Q1区前3%,中国科学院期刊分区1区期刊。多次荣获“中国最具国际影响力学术期刊”、“中国高校杰出科技期刊”、“上海市精品科技期刊”等荣誉,2021年荣获“中国出版政府奖期刊奖提名奖”。欢迎关注和投稿。
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Kim等制备了一种新型氟掺杂钴铁层状金属氢氧化物催化剂(F-CoFe LMH-8),该材料是性能优异的双功能电催化剂。在电流密度为10 mA⋅cm⁻²条件下,其HER、OER的过电位分别仅为 81.23 mV 和 265.5 mV。理论计算与实验结果表明:氟掺杂可调控材料电子结构,使铁活性位点转变为高自旋构型,优化反应中间体吸附能,同时赋予材料疏氯特性,有效抵御氯离子带来的腐蚀。将 F-CoFe LMH-8 同时作为阴、阳极双功能催化剂,组装得到阴离子交换膜水电解槽(AEMWE),在连续制氢过程中表现出优异性能:在 1 mol/L KOH溶液中,电流密度可达1.2 A⋅cm⁻²;在 1 mol/L KOH+0.5 mol/L NaCl混合溶液中,电流密度为1.02 A⋅cm⁻²;在海水基 1 mol/L KOH体系中,施加 2.3 V 电压即可实现1 A⋅cm⁻²的电流密度。此外,研究采用长短期记忆(LSTM)机器学习模型对 F-CoFe LMH-8 的稳定性进行预测。该研究思路为定向设计适用于海水电解阴离子交换膜电解槽(AEMWE)、可规模化制氢的高稳定性、疏氯型高性能电催化剂,提供了一套完整的研究方案。 图文导读 I F-CoFe LMH的制备与表征 图1展示了氟掺杂钴铁层状氢氧化物的合成流程与物化性质。本研究采用氧化镁纳米颗粒辅助法制备钴铁层状金属氢氧化物(CoFe LMH)材料,高分辨透射电镜(TEM)观测结果显示(图1b-e),氟掺杂并未破坏材料原本的纳米片形貌:其中未掺杂样品 CoFe LMH-3 的晶面间距为 0.2521 nm,氟改性后的 F-CoFe LMH-8 晶面间距增至 0.2612 nm,直观证明掺杂后材料晶格发生膨胀。结合XRD、Raman光谱与傅里叶变换红外光谱(图1f-h)测试结果可知,氟元素成功掺入晶体晶格且未生成其他杂相,同时有效调控了材料内部金属 – 氧键、羟基等化学键与表面官能团结构。图1i结合电子顺磁共振结果进一步证实,F-CoFe LMH-8 的信号强度显著高于原始样品,说明氟掺杂成功诱导铁原子形成高自旋构型,这一结构特征是该催化剂能够展现优异电催化性能的核心原因。 1.png 图1 (a) 材料合成示意图;(b、c) CoFe LMH-3 在不同放大倍数下的高分辨透射电镜图;(d、e) F-CoFe LMH-8 在不同放大倍数下的高分辨透射电镜图(插图为对应的选区电子衍射图谱);CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 的:(f) 粉末 XRD及对应晶面间距、(g) Raman光谱、(h) 傅里叶变换红外光谱、(i) 电子顺磁共振图谱。 图2通过多种表征手段,深入分析了氟掺杂前后钴铁层状氢氧化物的元素化学态、原子配位环境与电子结构特征。XPS谱图分别采集了Co、Fe、O、F四种元素的精细谱图(图2a-d),对比测试结果可见,氟掺杂后钴元素的特征峰位置、峰形均未发生明显偏移,证明钴位点的化学价态与局域电子环境基本保持不变;而铁元素的特征衍射峰出现显著位移,结合能发生规律性改变,直观反映出氟掺杂对铁原子电子云分布产生了明显调控。由此可见氟掺杂对钴元素的电子环境影响微弱,但会显著改变铁元素的结合能,证明氟原子可选择性作用于铁位点,同时完整保留钴活性中心的结构。同时图谱中出现了清晰的氟元素特征峰,也直接证实氟原子成功负载于材料表面并参与结构构建。 在此基础上,图2e-l通过X 射线吸收近边结构(XANES)与扩展 X 射线吸收精细结构(EXAFS)测试进一步印证了这一规律:钴的 K 边吸收谱与配位键长基本无变化,而铁的 K 边吸收峰向高能方向偏移,Fe-O 键作用明显增强,金属间键合被弱化。结合小波变换扩展 X 射线吸收精细结构图谱能够看出,氟掺杂精准调控了铁的局域配位环境,最终诱导铁形成高自旋状态,从原子层面揭示了材料催化性能提升的内在机理。 2.png 图2 CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 的 XPS 精细谱:(a-d) Co、Fe、O、F;(e) 钴 K 边 X 射线吸收近边结构谱及 (f) 对应的扩展 X 射线吸收精细结构谱;(g) 铁 K 边 X 射线吸收近边结构谱及 (h) 对应的扩展 X 射线吸收精细结构谱;钴 K 边小波变换扩展 X 射线吸收精细结构谱:(i) CoFe LMH-3、(j) F-CoFe LMH-8;铁 K 边小波变换扩展 X 射线吸收精细结构谱:(k) CoFe LMH-3、(l) F-CoFe LMH-8。 II F-CoFe LMH的电化学性能 图3综合展示了系列催化剂的电化学性能、界面反应特征与理论吸附特性。图 3a、3b分别为线性扫描伏安曲线与塔菲尔斜率,结果表明氟掺杂改性后的 F-CoFe LMH-8 拥有更优异的反应动力学性能,电荷转移阻力更低,电催化反应速率远优于未掺杂的 CoFe LMH-3。图 3c奈奎斯特图同样印证了该结论,F-CoFe LMH-8 的圆弧半径明显更小,代表材料界面电荷传输效率更高、导电性能更佳。 图 3d、3e 与 3f、3g为扫描电化学显微镜测试结果,分别呈现了两种材料的基底电流与探针电流分布。F-CoFe LMH-8 的电流响应强度显著更高,说明其表面活性位点数量丰富,且反应活性分布均匀。图 3h是 F-CoFe LMH-8 在恒定电流密度−50 mA⋅cm −2下的电化学稳定性测试,全程电位波动极小,体现出出色的电化学耐久性能。 结合理论计算,图 3i、3j、3k分析了氢吸附中间体在钴、铁、氧位点的吸附能与吉布斯自由能:铁位点对氢中间体的吸附强度最为适中,既保障反应顺利推进,又不会因吸附过强占据活性位点,从理论层面解释了该材料析氢催化活性突出的内在原因。 3.png 图3 (a) 不同组分氟掺杂与未掺杂钴铁层状氢氧化物催化剂的线性扫描伏安曲线;(b) 对应的塔菲尔斜率;(c) CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 的奈奎斯特图;CoFe LMH-3 的扫描电化学显微镜测试:(d) 基底电流分布、(e) 探针电流分布;F-CoFe LMH-8 的扫描电化学显微镜测试:(f) 基底电流分布、(g) 探针电流分布;(h) F-CoFe LMH-8 在恒定电流密度 −50 mA⋅cm⁻² 下的电化学稳定性测试;氟掺杂钴铁层状氢氧化物催化剂上氢吸附中间体在 (i) 钴位点、(j) 铁位点、(k) 氧位点的吸附能;钴、铁、氧位点上氢吸附中间体的吉布斯自由能。 图4围绕不同组分催化剂的析氧电化学性能、反应机理及电子结构展开分析。图 4a、4b为各样品的线性扫描伏安曲线与塔菲尔斜率,对比多款未掺杂、氟掺杂钴铁层状氢氧化物可以发现,F-CoFe LMH-8 的起始电位更低、塔菲尔斜率更小,代表其OER动力学最优,催化反应速率领先其余样品。图 4c的奈奎斯特图进一步佐证了上述结论,相较于 CoFe LMH-3,F-CoFe LMH-8 的阻抗圆弧半径更小,界面电荷转移阻力更低,电子传输能力更强。图 4d、4e和图 4f、4g为扫描电化学显微镜测试结果,F-CoFe LMH-8 的基底电流与探针电流信号更强,说明材料表面活性位点分布均匀且本征活性更高。 图 4h的稳定性测试结果显示,F-CoFe LMH-8 在持续工作过程中性能保持稳定,具备良好的长效服役能力。结合图 4iOER机理图与图 4j吉布斯自由能图,可明确材料的反应路径与最优活性位点。图 4k、4l的分态密度图谱则揭示了电子结构差异:氟掺杂有效调控了费米能级附近的电子态密度,提升了电子迁移能力,最终从电子层面阐明了 F-CoFe LMH-8 高效催化OER的本质。 4.png 图4 (a) 多种样品的线性扫描伏安曲线;(b) CLMH、CoFe LMH-1、CoFe LMH-2、CoFe LMH-3、CoFe LMH-4、FLMH-5、F-CLMH-6、F-CoFe LMH-6、F-CoFe LMH-7、F-CoFe LMH-8、F-CoFe LMH-9 及 F-FLMH-10 的塔菲尔斜率;(c) CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 的奈奎斯特图;CoFe LMH-3 的扫描电化学显微镜测试:(d) 基底电流、(e) 探针电流;F-CoFe LMH-8 的扫描电化学显微镜测试:(f) 基底电流、(g) 探针电流;(h) F-CoFe LMH-8 的稳定性测试;(i) OER机理;(j) F-CoFe LMH OER的吉布斯自由能图(用于确定反应活性位点);(k) CoFe LMH-3、(l) F-CoFe LMH-8 不同配位位点的分态密度图。 III F-CoFe LMH的耐蚀性测试与机理 图5聚焦催化剂在海水体系下的耐腐蚀性、电化学行为与作用机制。图 5a测试了 F-CoFe LMH-8 在纯KOH溶液、模拟海水以及添加天然海水的电解液中的线性扫描伏安曲线,样品在三类体系中均保持稳定的电化学响应,初步体现出良好的海水环境适应性。图 5b为两种材料在模拟海水中的线性极化曲线,相比 CoFe LMH-3,F-CoFe LMH-8 的腐蚀电流更低,抗腐蚀能力大幅提升。图 5c氯离子吸附能图谱直观说明,F-CoFe LMH-8 对氯离子的吸附作用较弱,能够有效减少氯离子在材料表面附着,这也是其具备优异疏氯性能的关键。图 5d奈奎斯特图与图 5e弛豫时间分布分析结果显示,氟掺杂改性后材料的阻抗特征更优,界面结构在模拟海水中不易被破坏。图 5f、5g多电位相频特性曲线进一步反映出,F-CoFe LMH-8 在不同电位下电化学界面状态更稳定。 图 5h原位拉曼光谱证明,长期处于模拟海水环境中,材料的晶体结构与化学键未发生明显改变,结构稳定性优异;图 5i长效稳定性测试也验证了该结果。图 5j–5q为不同电位下的扫描电化学显微镜测试数据,在 0.3 V 和 0.35 V(vs Ag/AgCl)电位条件下,F-CoFe LMH-8 的基底电流与探针电流信号始终稳定且强度更高,表明其表面活性位点在海水体系中可正常发挥作用。最后,图 5r为离子作用机理示意图,清晰阐释了材料排斥氯离子、保障催化反应持续进行的微观原理。 5.png 图5 (a) F-CoFe LMH-8 在 1 mol/L KOH溶液、模拟海水(1 mol/L KOH+0.5 mol/L NaCl)以及天然海水配制的 1 mol/L KOH 溶液中的线性扫描伏安曲线;(b) CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 在模拟海水中的线性极化曲线;(c) 氯离子吸附能图谱;(d) 奈奎斯特图;(e) CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 的弛豫时间分布分析;(f) CoFe LMH-3、(g) F-CoFe LMH-8 的多电位相频特性分析;(h) F-CoFe LMH-8 在模拟海水中的原位拉曼测试结果;(i) 其电化学稳定性测试结果。在参比电极银 / 氯化银电位为 0.3 V 条件下,CoFe LMH-3 的扫描电化学显微镜测试:(j) 基底电流、(k) 探针电流;电位升至 0.35 V 时:(l) 基底电流、(m) 探针电流。在 0.3 V(vs Ag/AgCl)条件下,F-CoFe LMH-8 的扫描电化学显微镜测试:(n) 基底电流、(o) 探针电流;电位升至 0.35 V 时:(p) 基底电流、(q) 探针电流。(r) 离子在 F-CoFe LMH-8 材料表面的作用机理示意图。 IV F-CoFe LMH的稳定性测试 图6主要探究了催化剂在电解液及电解器件中的综合性能、长效稳定性与运行表现。图 6a、6b是 CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 在模拟海水电解液(1 mol/L KOH+0.5 mol/L NaCl)中的线性扫描伏安曲线与多阶电流密度稳定性测试,对比可见 F-CoFe LMH-8 电化学活性更出色,在阶梯式变化的电流工况下性能也能平稳维持。图 6c进一步开展大电流稳定性测试,该样品在200 mA⋅cm⁻²、400 mA⋅cm⁻²高电流密度下持续工作,电位无明显波动,耐受大电流冲击的能力较强。 图 6d为阴离子交换膜水电解槽(AEMWE)装置示意图,直观展示了器件整体结构。图 6e、6f分别是搭载 F-CoFe LMH-8 双功能催化剂的电解槽,在三种不同电解液体系下的极化曲线与奈奎斯特图,结果表明该电解槽在常规碱液、模拟海水、天然海水体系中均拥有较低的极化电压与界面阻抗,环境适配性良好。 图 6g记录了电解槽的长期运行稳定性,器件可连续稳定工作。图 6h将电解槽电压衰减率与美国能源部(DOE)既定指标进行对比,本体系衰减速率远低于标准要求,长效运行优势显著。图 6i针对海水体系下的电解槽开展不同运行时长的弛豫时间分布分析,数据证明随着运行时间增加,器件界面结构与电化学特性未出现明显劣化。图 6j借助时序分析法对催化剂及电解器件的长期稳定性进行预测,进一步佐证了该材料在海水电解规模化应用中的潜力。 6.png 图 6 (a) CoFe LMH-3 与 F-CoFe LMH-8 催化剂在 1 mol/L KOH+0.5 mol/L NaCl体系中的线性扫描伏安曲线;(b) 多阶电流密度下的稳定性测试结果;(c) F-CoFe LMH-8 在上述电解液中,分别恒定电流密度为 200 mA⋅cm⁻²、400 mA⋅cm⁻² 时的稳定性测试;(d) 阴离子交换膜水电解槽(AEMWE)装置示意图;(e) 采用 F-CoFe LMH-8 双功能催化剂组装的电解槽,分别在 1 mol/L KOH、1 mol/L KOH+0.5 mol/L NaCl、1 mol/L KOH+天然海水体系下的极化曲线;(f) 对应的奈奎斯特图;(g) 该电解槽的长期运行稳定性;(h) 电压衰减率与美国能源部(DOE)技术指标对比;(i) F-CoFe LMH-8 基电解槽在海水体系中不同运行时长下的弛豫时间分布分析;(j) 借助时序分析法对催化剂稳定性进行的预测结果。 V 总结 综上所述,本研究对钴铁层状金属氢氧化物进行氟掺杂改性,成功制备出一种性能优异、稳定性强的双功能电催化剂,可应用于长效海水电解体系。氟掺杂可精准调控钴铁层状氢氧化物的铁配位位点,同时不会破坏用于OER的钴活性金属中心。所制备的 F-CoFe LMH-8 兼具出色的析氢与析氧催化性能:电流密度达到10 mA⋅cm⁻²时,析氢过电位为 81.23 mV,析氧过电位为 265.5 mV。氟掺杂能够强化铁位点的铁 – 氧键作用,促使双电层内氢氧根离子持续富集,有效抑制氯离子腐蚀,进而提升催化剂的催化活性与服役寿命。此外,采用 F-CoFe LMH-8 同时作为阴、阳极组装的阴离子交换膜海水电解槽,在 2.3 V 电压下可实现1 A⋅cm⁻²的电流密度;在0.125 A⋅cm⁻²恒定电流下连续运行 500 小时,电压衰减率仅为0.15 μV⋅h⁻¹,不仅达到美国能源部相关技术指标,也证明该体系具备工业化应用潜力。本研究为简易制备高性能、抗腐蚀海水电解催化剂提供了新思路,可推动阴离子交换膜海水电解槽的长效稳定运行。 作者简介 7.jpg图片 Do Hwan Kim 本文通讯作者 韩国全北国立大学 教授 ▍主要研究领域 电催化水分解、海水电解、阴离子交换膜电解槽技术以及非贵金属催化材料设计。 ▍主要研究成果 Do Hwan Kim教授任职于韩国全北国立大学,为科学教育学部教授、表面化学实验室负责人,主要研究方向涵盖电催化水分解、海水电解、阴离子交换膜电解槽技术以及非贵金属催化材料设计,在Adv. Funct. Mater.、Nano Energy 等知名期刊累计发表 SCI 论文 130 余篇,总引用量超 5000 次,h 指数约 40,研究成果多见于,在本研究中主要负责催化剂设计、电子结构调控与电解槽性能测试分析。 ▍Email:dhk201@jbnu.ac.kr 图片8.png Sang Jae Kim 本文通讯作者 韩国济州国立大学 教授 ▍主要研究领域 海水电解双功能催化剂、层状氢氧化物复合材料、电极界面调控及抗氯离子腐蚀技术。 ▍主要研究成果 Sang Jae Kim教授毕业于日本东北大学,曾赴剑桥大学、佐治亚理工学院开展访学研究,现任韩国济州国立大学教授、纳米材料与系统实验室负责人,长期致力于海水电解双功能催化剂、层状氢氧化物复合材料、电极界面调控及抗氯离子腐蚀技术研究,多项成果发表于Adv. Energy Mater.、Small等高水平期刊,累计发表 SCI 论文 150 余篇,h 指数达 73。 ▍Email:kimsangj@jejunu.ac.kr 撰稿:《纳微快报(英文)》编辑部 编辑:《纳微快报(英文)》编辑部 关于我们 9.jpg Nano-Micro Letters《纳微快报(英文)》是上海交通大学主办、在Springer Nature开放获取(open-access)出版的学术期刊,主要报道纳米/微米尺度相关的高水平文章(research article, review, communication, perspective, highlight, etc.),包括微纳米材料与结构的合成、表征、性能及其在能源、催化、环境、传感、人工智能、电磁波吸收与屏蔽、健康监测、生物医药等领域的应用研究及高水平综述。期刊已被SCI、EI、PubMed、SCOPUS等数据库收录,2025 JCR IF=38.5,学科排名Q1区前1.5%。多次荣获“中国最具国际影响力学术期刊”、“中国高校杰出科技期刊”、“上海市精品科技期刊”等荣誉,2021年荣获“中国出版政府奖期刊奖提名奖”。欢迎关注和投稿。 期刊网址: https://springer.com/40820 投稿网址:https://mc03.manuscriptcentral.com/nmlett E-mail: editorial_office@nmlett.org Tel: 86-21-34207624