
聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)被广泛用于石墨烯转移和设备制造。然而,在用丙酮冲洗后仍不可避免地在石墨烯表面留下薄薄的一层聚合物,导致设备性能退化。对于如何消除该残留和恢复石墨烯的性质,北京大学的傅云义 教授课题组提出了用激光曝光的方法。这种方法不仅可靠并且可控。在适当的激光条件下,PMMA残留物可以大大减少而且不影响下层的石墨烯。此外,如果将激光清洗技术应用到石墨烯场效应晶体管(GFETs)的通道和触体上就可以同时实现较高的载流子迁移率和较低的接触电阻。这项工作为探索同时制备无污染和用具有清洁通道石墨烯来制备高性能GFETs提供了一个值得借鉴的思路。
北京大学 傅云义 教授课题组
http://www.ime.pku.edu.cn/soi/fyy.html
参考文献:Jia, Y., Gong, X., Peng, P., Wang, Z., Tian, Z., Ren, L., … & Zhang, H. Toward High Carrier Mobility and Low Contact Resistance: Laser Cleaning of PMMA Residues on Graphene Surfaces. Nano-Micro Letters, 1-11.
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Nano-Micro Letters
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