标签:原子层沉积

催化

NML研究文章 | 复合可见光催化体系:原子层沉积制备In2S3/ZnO

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NMSCI 发布于 2018-05-14

【引言】 半导体光催化技术因绿色、高效、节能等优点在环境治理方面备受瞩目。当前的核心问题是开发高效、稳定、廉价的可见光型催化剂。研究表明,金属硫化物如In2S3具有优异的可见光响应性能和光催化性能。但受制于材料本身缺陷及纳米晶涂覆层与导电基底的欧姆接触性能不好等因素,纳米结构In...

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电化学

Al2O3缓冲层对原子层沉积溅射VO2薄膜性能的影响

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NMSCI 发布于 2017-03-20

论文概述 VO2在接近室温下(65 ℃)会发生相变(M相→R相),从而导致其电学和光学性能发生显著改变。这种金属-绝缘体转变的特性在电磁波调制器、开关、全息存储、THz波长器件等电子器件领域具有广阔的应用前景。通常,在Si/SiO2基底上制备生长VO2薄膜,而两者之间的点阵错配、...

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